卓立汉光将参加​第十届全国掺杂纳米材料发光性质学术会议并报告《宽禁带与新型发光材料光谱表征的最新进展》

第十届全国掺杂纳米材料发光性质学术会议（NMLP2024）将于2024年11月15日-17日在福建厦门举行。届时，卓立汉光将携带科研分析产品及解决方案（拉曼光谱、荧光光谱、超快光谱等）参会。副总经理董磊将出席报告并介绍宽禁带与新型发光材料光谱表征的最新进展。期待与您相约在此，共同探讨学术前沿！

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报告日程

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时间：11月16日下午14:35-14:50

地点：分会场 6

题目：《宽禁带与新型发光材料光谱表征的最新进展》

演讲人：董磊 北京卓立汉光仪器有限公司副总经理

演讲人介绍：

董磊，北京卓立汉光仪器有限公司副总经理 。2005年毕业于中国科学院上海光学精密机械研究所材料学专业，2014年获得上海交通大学安泰经济管理学院MBA学位，至今为止就职于卓立汉光公司19年，全面负责公司新产品业务发展、市场、销售及服务部门等管理工作。

报告简介：

卓立汉光作为一家分子光谱仪器企业，通过产学研合作，不断推陈出新，在化合物半导体材料的发光表征包括Raman测试应力与载流子浓度，AlN与AlGaN的本证发光测试，条纹相机结合钙钛矿的超快寿命测试等领域，取得了一些进展。

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关于会议

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全国掺杂纳米材料发光性质学术会议旨在总结和交流近年来我国在掺杂纳米发光材料、光电信息功能材料及相关领域所取得的研究成果，凝练科学目标，探讨学科发展方向，集中优势资源攻克前沿科学问题，增强国际竞争力。

⏳会议时间 - 2024年11月15日-17日

会议地点 - 福建厦门