国产光刻机里程碑式进展，外媒惊叹：大势已去，无法阻挡！

近期，据环球时报等多家权威媒体报道，在美方持续施压的背景下，荷兰ASML公司突然宣布，将停止对中国客户部分DUV光刻机型号的售后服务，包括设备检修等。据悉，这些光刻机设备预计在明年将无法维持正常运行。

此消息迅速在国内科技界引起轩然大波。要知道，多年来中国已向ASML累计采购了约1400台光刻机，仅在2024年上半年，即三方协议缓冲期内，中国就密集采购了约88台光刻机，总价值高达350亿元人民币。

在中国芯片产业爬坡过坎、攻坚克难的关键时刻，这些引进的光刻机对于保障芯片产能至关重要。然而，美方此举显然意在通过“釜底抽薪”的手段，将中国已购的光刻机变成一堆“废铁”，从而遏制中国自主制造芯片的能力。

然而，令美方和ASML始料未及的是，短短数十天内，形势便发生了逆转，大局已定！

近日，国内科技圈再次掀起波澜，话题焦点集中在“光刻机”这一关键词上。据工信部9月上旬发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录》通知透露，两台由中国自主研发的光刻机设备正式亮相，标志着中国在光刻机领域取得了重大突破。

资料显示，这两台国产光刻机分别为氟化氪光刻机（Krf）和氟化氩光刻机（Arf）。其中，Krf光刻机波长为248nm，分辨率≤110nm，套壳精度≤25nm；而Arf光刻机波长为193nm，分辨率≤65nm，套壳精度≤8nm，均属于深紫外（DUV）光刻机范畴。

从2020年至今的四年间，虽然关于国产光刻机的消息不断传出，如光源技术的突破等，但此次两台整机的成功研发仍具有里程碑意义，彰显了中国在光刻机领域的显著进步。

需要澄清的是，关于氟化氩光刻机（Arf）小于8nm的套刻精度，并不意味着它可以直接用于制造8nm芯片。套刻精度指的是前后两道光刻工序间图形对准的精度，而非芯片制造的直接工艺尺寸。因此，该光刻机主要适用于成熟芯片领域的制造。

事实上，通过多重曝光技术，该光刻机理论上也能支持更先进制程芯片的制造，如14nm或7nm芯片。但考虑到良率和成本因素，这并不是最经济划算的选择。

正如龙芯工程师胡伟武两年前所言，中国不必盲目追求制造5nm等尖端芯片。就目前国内市场需求而言，28nm制程的芯片已足够满足大部分产业领域的需求，如家电、汽车等。这些行业主要使用的都是成熟制程的芯片。

因此，在美方和ASML企图通过停止售后服务来遏制中国光刻机发展的关键时刻，国产光刻机的突破无疑为中国芯片产业注入了强心剂。外界的封锁不仅无法阻挡中国芯片产业的崛起步伐，反而将加速推动中国实现芯片供应链国产化替代的进程。

从90nm到65nm的分辨率提升，欧美国家用了数十年时间才完成这一跨越，而中国却仅用了短短四年时间便实现了这一突破。这就是令人瞩目的“中国速度”！甚至连不少外媒都纷纷表示，中国芯片产业的发展势头已无法阻挡！

当然，在肯定国产光刻机取得重大突破的同时，我们也应理性看待与国际先进水平的差距。目前，国产光刻机在工艺和性能方面仍有待进一步提升和完善。但我们应该给予足够的耐心和支持，因为任何尖端技术的研发都需要经历从无到有、从弱到强的过程。只有先站稳低端市场、夯实技术基础，未来才能更好地向高端市场发起冲击。

让我们保持耐心、拭目以待！相信在不久的将来，中国芯片产业必将再次震惊全世界！