国产光刻机，虽然落后ASML有20年，但已离浸润式仅一步之遥

国产光刻机，虽然落后ASML有20年，但已离浸润式仅一步之遥

国产光刻机，虽落后ASML有20年，但离浸润式仅一步之遥了

光刻技术是当今大规模芯片制造中不可或缺的一环，而在光刻技术中，光刻机作为核心设备，其重要性自是不言而喻。全球目前在光刻机制造领域，主要有四家知名企业，这些企业分别是ASML、尼康、佳能和上海微电子。

然而，在这四家企业中，ASML几乎垄断了市场，独占85%以上的份额，其余的尼康和佳能合计也仅占15%。相比之下，上海微电子在这一市场的表现则显得微不足道。

值得注意的是，ASML不仅在市场份额上遥遥领先，更在技术上具有绝对的优势。ASML的EUV光刻机，全球只有它一家能够生产，而在浸润式DUV光刻机领域，它更是拥有95%的市场份额。这一切都表明，ASML在光刻机行业中的技术实力和市场控制力是其他厂商难以匹敌的。

最近，国产光刻机引起了业界的关注。根据官方权威机构发布的信息，一台国产氟化氩光刻机亮相，其采用193nm波长，分辨率达到≤65nm，套刻精度≤8nm。这一消息一度令业界振奋。然而，经过专业人士的深入分析，发现这台光刻机实际上仍属于干式DUV光刻机，并未真正迈入浸润式DUV光刻机的领域。

从技术层面来看，这台国产光刻机与ASML旗下的TWINSCANXT:1460K极为相似，而后者是于2015年推出的产品。更重要的是，ASML早在2003年就推出了第一代浸润式光刻机，这使得国产光刻机在技术水平和研发进度上与ASML相比，客观上落后约20年。

尽管从理论上分析，国产光刻机在技术上的确存在显著差距，但我们也不能忽视两个重要的进步：

1.供应链的国产化

这台国产光刻机采用了全国产供应链，这是一个巨大的进步。值得一提的是，ASML之所以能够在光刻机领域占据如此强势的地位，正是因为其将全球的核心供应链整合在一起，其中很多关键组件不对外供应，诸如蔡司等公司都是其重要的合作伙伴。因此，其他厂商的光刻机很难大量生产。

然而，国产光刻机虽然仍处于干式DUV阶段，却实现了元件的全面国产化，且采用了非美工艺与产业生态进行设计与制造，这一成就不可小觑。

2.接近浸润式光刻机的极限

另外，国产的这台干式DUV光刻机，其技术性能已经达到了当前干式DUV光刻机的极限，与浸润式DUV光刻机仅一步之遥。根据光刻机技术的发展路线，主要是从第四代干式技术（ArF）向第五代浸润式技术（ArFi）发展，最终再迈向第六代极紫外线光刻机（EUV）。如今，这款分辨率≤65nm的光刻机正是浸润式光刻机前的最后一代，即第四代技术。

在与浸润式光刻机的比较中，这种光刻机在光源和工作台的使用上其实是相同的，唯一的区别在于浸润式光刻机需配备一套专门的浸润式系统。这个系统通过在晶圆上方添加一层水作为介质，使得193nm波长的光线经过水的折射后，等效地转化为134nm的波长。这样的技术进步，使得国产光刻机在性能上接近了浸润式光刻机的水准。

可以看出，国产光刻机在技术进步和产业链建设方面取得的成就，使得其在未来的发展中具备了很大的潜力。如果再接再厉，突破到浸润式光刻机的技术壁垒，完全可以满足生产5nm芯片的需求，从而在光刻机市场中占据更为重要的地位。

展望未来，随着国产光刻机技术的不断进步和供应链的逐渐完善，我们有理由相信，国产光刻机在未来的芯片制造中将扮演越来越重要的角色。