尼康和佳能因坚持原有路线而逐渐落后。尽管尼康最终也成功研发出了浸润式光刻机,但其效率和工艺水平均无法与ASML相媲美。随着时间的推移,ASML在光刻机市场的份额越来越高,最终占据了90%的市场份额,而尼康和佳能合计仅占据约10%的市场份额。
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然而,近日尼康再次引起了业界的关注。他们宣布推出了采用增强型浸润式系统的光刻机,具有更高的精度和生产速度。相比于上一代产品,新光刻机的效率提高了10-15%,成为尼康有史以来效率最高的光刻机。同时,由于精度的大幅提升,这款新型浸润式光刻机已经能够支持到5nm芯片的制造,这意味着即使不使用EUV光刻机,也能实现7nm以下的芯片生产。
然而,尽管尼康的浸润式光刻机取得了显著的进步,但由于日本的禁令限制,这些先进的光刻机仍无法销售给中国大陆市场。这一限制使得我们仍然面临着光刻机技术的困扰和挑战。因此,我们必须继续坚持自主研发的道路,努力突破技术瓶颈,实现光刻机技术的自主可控。
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