尽管ASML公司努力争取,但在美方的强大压力下,日本和荷兰最终还是宣布了出口管制措施。日本方面迅速制定了严格的限制标准,将制程范围在45nm至7nm的浸润式光刻机列入限制范围,这使得尼康等公司的相关产品无法继续向我们出口。
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相比之下,荷兰方面的态度则稍显缓和,其限制措施的实施时间和标准都相对宽松一些。
尽管如此,ASML公司仍然面临着巨大的挑战。然而,它并没有放弃,而是继续寻求突破。通过巧妙的策略调整和技术创新,ASML公司成功争取到了加速出货的机会,使得部分型号的光刻机得以继续向我们出口。
当然,我们也应该清醒地认识到,尽管ASML公司的努力为我们争取到了一定的缓冲时间,但长期来看,我们仍然需要加大自主研发力度,提升光刻机等关键设备的国产化水平。只有这样,我们才能真正摆脱对外部技术的依赖,实现芯片产业的自主可控和持续发展。
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