近日,在ASML官方社交媒体账号上,一张充满仪式感的现场照片吸引了无数目光。照片中,光刻机的一部分被精心放置在保护箱中,箱身缠绕着鲜艳的红丝带,仿佛一位即将出嫁的新娘,等待着被送往新的家园。这台光刻机组装起来比卡车还要庞大,为了确保其安全运输,它被巧妙地分装在250个单独的板条箱中,其中包括13个大型集装箱,犹如一支庞大的舰队,浩浩荡荡地驶向未来。
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值得注意的是,NA数值孔径作为光刻机光学系统的重要性能指标,直接决定了光刻的实际分辨率以及所能达到的工艺节点。此次ASML推出的高数值孔径EUV光刻机,型号为Twinscan EXE:5000,它的问世将使得2nm工艺乃至更先进的芯片制造成为可能,这无疑将为全球半导体产业带来一场革命性的变革。
可以预见,从2026年或2027年起,当这些光刻机开始正式投入商业芯片制造时,它们将如同一条条巨龙般,在微电子领域翻云覆雨,引领着全球科技产业迈向一个更加辉煌的未来。
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