光刻胶技术大突破，日本神话即将被扫入历史垃圾堆！

光刻胶技术大突破，日本神话即将被扫入历史垃圾堆。

上世纪八九十年代，日本塑造了一个所谓“科技神话”，但这种所谓“神话”既缺乏国家主权支撑，更缺乏战略智慧，在中美混合双打中，一败涂地，神话破灭其实早已注定。

我从不否认日本人的努力，但缺乏基本稳定的地基，楼建得再漂亮，终究也会倒塌。中美也许注定不会走到一起，但在破除所谓日本“科技神话”这点上，双方的默契高度一致，配合得天衣无缝。

中国从中低端产业开始打掉日本的基础工业，美国从上层开始掐掉日本的战略能力。如今的日本仅剩汽车与半导体产业支撑，可是在特斯拉这条鲶鱼入华以后，中国电动汽车开始走上一条迅猛发展的道路，势不可挡。

日本汽车产业之花丰田在2024年开局就遭遇了有史以来最严重的滑铁卢，不仅在中国大陆销售下滑超过30%，而且全球销量下滑了16%。

丰田的衰落肉眼可见。这背后正是日本所谓“科技神话”正逐渐变成一个笑话。

可是日本政府非但没有醒悟，而是选择跟随美国全面禁止半导体设备对华出口，正是日本政府缺乏战略远见的这一个骚操作，彻底把日本科技脊梁给打断了。

4月2日，华中科技大学与湖北九峰山实验室组成的联合研发团队成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻机技术”，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化全链条打通。

这是继华为突破5nm以后中国在半导体产业链上的又一重大突破，一旦中国实现了光刻胶自主研发与制造，日本半导体产业将遭遇重大打击。