ASML正式公布,EUV光刻机“细节”曝光,值得反思!
ASML公司的极紫外光刻机,是半导体行业的尖端科技,是整个集成电路生产的核心,而目前全球只有 ASML公司一家拥有此项技术。
其他国家不能生产 EUV光刻机的主要因素有很多,其中包括技术、产业链、资金、人才,这些都是中国没有能力进入的原因之一。
首先,极紫外光刻是目前国际上最尖端的一项研究,它所需的是超短波紫外线光源,在光学系统、光源和材料等方面都有非常苛刻的需求。
ASML是世界上最大的 EUV光刻设备生产商之一,其技术实力雄厚,技术实力雄厚,技术实力雄厚。
目前,我国最大的问题是对该问题的深入认识和核心技术的自主研究。
另外,极紫外光刻机的制作过程中,由于其结构的复杂性以及微纳尺度下的高精度,使得其在制作过程中面临着巨大的挑战。
其次,极紫外光刻机是一种大规模的、高集成度的生产设备,其中包括光刻胶、掩模、光学元件等。
在此领域,尽管中国已具备了一些相关的技术积累,但是相对于 ASML,中国还存在着完整的产业链支撑,严重制约着我国在 EUV光刻领域的发展。
第三,极紫外光刻技术的研究,对经费的要求非常高,目前 ASML已经在这个领域砸下了不少钱。
虽然前段时间几年中国已经增加了投资,但是要追上像 ASML那样的巨人,资本的投资依然是一项艰巨的任务。
此外,由于 EUV光刻机在国际上的巨大需求量以及 ASML的垄断,中国国内极紫外光刻机的发展受到了极大的限制。
第三,极紫外光刻技术是一项涉及光学、物理、材料等多学科交叉的技术,是一项非常有挑战性的工作。
中国急需引进更多的国际顶尖技术人员,建立多学科交叉的研究队伍,加强国际间的交流与合作,也是促进我国创新发展的重要途径。
ASML之所以不怕中国的模仿,完全是因为他们的技术、产业链和人才储备。
于是, ASML公司将最新的 EUV光刻机的视频公布了出来。
也许对于欧美各国来说,就算我们拿出了 EUV光刻机的详细资料,中国也不可能从他们那里窃取技术,甚至连复刻都做不到。
有网民表示, EUV光刻机技术难度之大,即便是拿着设计图,也未必能做得到。
中国连一台 DUV光刻机都做不到,更不要说 EUV光刻机了,现在的中国,连微型化都做不到。
但也有人对此保持着中立的看法,一部分网民则表示,这并不是什么奇迹,也不是什么外星人制造出来的,中国迟早会掌握 EUV光刻机。
中国可以利用10纳米技术制造5纳米芯片,虽然产量和成品率都不高,但也不是不可能。
也有人信心十足的表示,国外什么圆珠笔啊,航母缆绳啊,钢铁啊,隧道隧道啊, CT机啊,中国都研究过了,中国人相信,用他们的聪明才智,一定可以将 EUV光刻机造出来。
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