观点网讯:2月5日,三星电子与荷兰光刻机巨头ASML宣布,双方将在韩国共同投资建设一座半导体先进制程研发中心,预计自2027年起引进High-NA极紫外光(EUV)设备。该研发中心的建立是为了推动High-NA EUV技术的发展,总投资金额达到1兆韩元。由于需要经过相关许可流程,研发中心最快将于2024年12月或2025年动工。
据悉,High-NA EUV技术是下一代半导体制程的关键,能够实现更高的集成度和性能。三星表示,目前High-NA EUV技术仍处于审查推出时机的阶段,未来将根据市场状况及客户需求来决定发展方向。此次合作将有助于提升双方在全球半导体产业的竞争力,推动半导体技术的进步。
领取专属 10元无门槛券
私享最新 技术干货