ASML浸润式DUV光刻、EUV光刻机断供！

光刻机市场现状

目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML垄断，ASML一家就占了全球90%的份额。ASML的先进光刻机技术在市场上占据重要地位，特别是浸润式DUV光刻机和EUV光刻机。浸润式DUV光刻机主要应用于65-7nm工艺制程，而EUV光刻机则用于7nm以下的工艺制程。ASML在先进技术领域的份额更加突出，其在ArFi光刻机市场占有95%的份额，而在EUV光刻机市场则实现了百分之百的垄断。

ASML的禁售危机

由于ASML垄断了先进光刻机市场，一些国家出于各种原因开始限制光刻机的出口，其中包括美国和日本。美国在之前不允许ASML的EUV光刻机销往中国大陆，这导致中国大陆的晶圆厂至今没有自主使用EUV光刻机的能力。之后，美国联合日本和荷兰，进一步对光刻机实施限制。日本禁止所有的浸润式光刻机出口到中国大陆，而荷兰的ASML表示，只有一台NXT:1985Di浸润式光刻机能够出口。然而，在2023年10月，美国的禁令再次升级，ASML唯一能够出口的浸润式光刻机也被禁止了，不再能够销往中国大陆。尽管ASML表示他们在2023年内获得了许可证，但从2024年开始，所有浸润式光刻机都不能再销往中国大陆。因此，可以说ASML的浸润式DUV光刻机和EUV光刻机已经正式断供。

中国大陆的光刻机采购潮

面对ASML光刻机断供的情况，中国大陆晶圆厂急需采购光刻机以应对扩大生产的需求。数据显示，截至11月份，中国大陆向ASML的光刻机进口金额已经超过500亿元，比2022年增长了三倍左右。中国大陆利用ASML还能销售浸润式光刻机的时机，疯狂大量采购并囤积光刻机，以备不久之后的供需紧张。根据业内人士的预测，中国大陆目前从ASML采购的光刻机应该能够支撑国内晶圆扩产需求约三年左右。然而，三年之后，甚至不需要等满三年，可能就会再次面临光刻机的短缺，尤其是尖端的ArFi和EUV光刻机。

国产光刻机的突破

为突破光刻机供应短缺，国内芯片产业势必需要发展自主的光刻机技术。由于ASML在短期内无法获得出口许可证，国内研发浸润式ArFi光刻机和EUV光刻机的能力将会成为关键。中国大陆的微电子水平目前还停留在ArF光刻机，工艺制程也只达到90nm，因此国内长期以来一直大量采购ASML的光刻机。然而，随着技术升级的限制和未来的断供风险，国内芯片产业需要加快自主研发能力的培养，以确保国内光刻机技术的突破和发展。

总结与展望

目前，ASML的浸润式DUV光刻机和EUV光刻机因禁售将无法继续供应到中国大陆。面对ASML光刻机断供的挑战，中国大陆的晶圆厂采购光刻机的速度大幅加快，以满足扩大生产的需求。然而，长期来看，国内芯片产业需要依靠自主研发光刻机技术，特别是浸润式ArFi和EUV光刻机的突破，以确保自身的可持续发展。当前的光刻机采购热潮只是短期应对策略，未来的发展必须寻求自主创新，使国内的光刻机技术能够达到国际先进水平，确保芯片产业的竞争力和可持续发展。通过不断加大科技投入和研发力度，中国大陆有望在光刻机领域取得突破性进展，并带动芯片产业整体的发展壮大。