在制造芯片原料的设备上,近日我国迎来了新突破。据7月7日报道,日前国内两大相关企业(宁波江丰电子、四川川西机器)成功联合研制出超大规格热等静压设备,并已实现投产。
值得一提的是,该设备实现了100%国产化,且相关技术参数和国际先进水平已不相上下,是我国有效热区容积最大的热等静压设备——工作高度达到4.5米,最高加热温度达1500℃。
那么,这种超大规格的热等静压设备,将如何运用到芯片原料的制造环节呢?据悉,该设备可用于制造大尺寸钼合金靶材等关键材料,而热等静压技术在“超高纯靶材”制备的应用,将有望为我国电子材料产业的发展提供重要的设备保障。
要知道,这种名为“超高纯靶材”的材料,是我国官方明确重点发展的新兴材料,这种材料在半导体芯片、信息存储和平面显示器等行业发挥了极大的作用。总的来说,国内迎来半导体设备新的突破,将有望推动芯片制造产业的发展。
值得一提的是,据官方数据,目前全球近75%的芯片生产集中在东亚地区,而我国的芯片制造商更是不断突破芯片制造技术,力求扩大在全球芯片产能中的占比。
分析指出,与美国的晶圆厂相比,中国厂商更具成本优势——成本通常要比前者低37%至50%。随着我国半导体产业链的不断完善,将来我国在全球芯片制造业的竞争力“不容小觑”。
文|林妙琼 题|曾艺 图|卢文祥 审|吕佳敏
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