【IC风云榜候选企业183】复享光学：推动光子技术，赋能微纳制造

【编者按】2024年度IC风云榜再度升级，奖项扩展至35个、榜单增至59项，不仅在形式和深度上焕然一新，而且分类更加科学全面，产业触达程度更深、行业影响力持续扩大。本届评委会由半导体投资联盟超100家会员单位、500+半导体行业CEO共同担任，获奖名单将于2024半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼上隆重揭晓，激发产业创新潜能，树立产业新标杆。

【候选企业】上海复享光学股份有限公司（以下简称：复享光学）

【候选奖项】年度优秀创新产品奖

在半导体制造领域，刻蚀终点检测扮演着决定性角色，是确保芯片制造精度与成本控制的关键环节。面对长期依赖进口的技术挑战，复享光学以其自主研发的EPD光谱仪ZURO产品实现了刻蚀终点检测领域的突破，不仅攻克了依赖进口的技术瓶颈，还显著提升了制造良率和效率。

作为国家级专精特新“小巨人”企业和上海市科委集成电路支撑项目的承担单位，复享光学在微纳光学量检测领域拥有丰富的经验和深厚技术积累，已成为中国先进光谱技术的领导者。公司以赋能微纳制造，推动光子技术进步为使命，历时十余年精心打磨，依托百余项自主知识产权，掌握深度光谱技术，并能够有效地结合客户场景，成功研发出终点检测系列产品，为客户提供了全方位的解决方案。不仅填补了国内技术空白，还在全球范围内证明了其技术的领先性。

EPD光谱仪ZURO凭借其在深度光谱技术方面的领先性，有效应对等离子体刻蚀、反应离子刻蚀、深孔刻蚀、原子层刻蚀等高难度工艺。其高性能特点，如极低光强有效检出、突破 25000:1 的高动态范围、全信号区段的高信噪比，结合ideaEPD软件的人工智能终点判断算法和神经网络优化技术，保证了刻蚀工艺的高精度和稳定性，能从容应对3D NAND台阶刻蚀、沟槽型SiC MOSFET凹槽刻蚀、超小开口率深硅刻蚀、III-V族化合物半导体EPI结构刻蚀等场景中的终点判断。

复享光学的EPD光谱仪ZURO在国内多家Fab厂稳定运行，成为众多知名头部半导体企业的首选合作伙伴。其出色的技术性能和产品质量，得到了市场和行业的高度认可，展现了复享光学在微纳光学量检测和深度光谱技术领域的领先地位和对半导体行业的重大贡献。

未来，复享光学将继续深入研究和创新光谱技术，推动产品的不断升级，助力全球半导体行业的持续发展。复享光学的技术突破和创新实践，已经成为国内半导体制造领域不可或缺的一环，为全球半导体产业的进步贡献着中国智造的力量。

【奖项申报入口】

2024半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼将于2023年12月举办，奖项申报已启动，目前征集与候选企业/机构报道正在进行中，欢迎报名参与，共赴行业盛宴！

【年度优秀创新产品奖】

旨在表彰补短板、填空白或实现国产替代，对于我国半导体产业链自立自强发展具有重要意义的企业。

【报名条件】

1、深耕半导体某一细分领域，近一年内实现新产品的研发及产业化；

2、产品的技术创新性强，具有自主知识产权，产生一定效益，促进完善供应链自立自强。

【评选标准】

1、技术或产品的主要性能和指标（30%）；

2、技术的创新性（40%）；

3、产品销量情况（30%）。