ASML慌乱，中国寻找多途径绕开其光刻机，谋求芯片独立

ASML慌乱，中国寻找多途径绕开其光刻机，谋求芯片独立

由于华为大会，中国对半导体产业的关注也越来越高，虽然中国方面出于某些考虑，难以获得ASML公司的高端光刻机，但就现有信息来看，中国已经掌握了不下四种方式，可以绕开ASML的光刻技术，从而令ASML陷入了极度的恐惧之中。

第一条路，就是基于已有的晶片制造，由华为推出晶片叠层，利用已有的制程，可以制造出更高品质的晶片；在国际上，芯片的封装技术已被引进，国内也取得了重大进展，即通过将各种型号的芯片进行集成，以增强各芯片间的通讯效能，以提升系统的效能。

其次，就是要健全国内的光刻机产业链，国内目前拥有的最好的光刻机，都是我们自己研制出来的，而且正在逐渐成熟，国内有双平台、物镜系统、激光灯系统、渗透系统等，国内是全球独一份，而荷兰ASML，却要从德国、日本、美国进口光刻机的零件，这些都是从国外进口。

三是研究开发新材料，当前，我们在国际上已经走在了前列，以氮化镓和碳化硅为代表的第三代半导体材料已经有了重大的进展和实际应用；中国与美国相继推出以石墨烯为代表的第四代半导体材料，新一代的半导体原料之争显得尤其关键，美国创业企业SkyWater（SkyWater）已计画将奈米碳管导入晶片工业。碳纳米管被应用到晶片制造中，使得90nm制程的晶片，其效能是7奈米制程制程所需功率的50倍，从而对晶片制程造成毁灭性打击。

第四是发展无光刻制程，这一点日本企业已提出，其中日本一家研发出免光刻法的制程，称为「NIL制程」，现已进入10奈米，中国也正在进行相关试验。

中国在许多领域都进行了大量的研究，这些技术都是基于中国过去30年的制造业所奠定的，而中国能够在这么短的时间内建造出一条光刻生产线，虽然让一个外国企业感到吃惊，但其实也没什么好奇怪的。

每个行业都有一个共性，那就是现有的工厂可以快速升级，同时也可以进行相应的配套设备的生产，例如2020年，因为新冠病毒的缘故，我们的纺织行业从原来的日产能提升到了每天两千万台，现在又从原来的日产能提升到了接近九亿台，这也为我们纺织行业的光刻机的镜头系统和激光系统等提供了良好的条件。光刻机的镜头系统和激光系统，之前都被应用在了其它的制造业中，想要转移到光刻机的零件上，并不是什么难事，这也是为什么国内能够快速发展光刻机的原因。

而在基础材料方面，因为中国在工业化之初，就遇到了许多难题，因此中国重视科技自立，形成了一个自主的工业体系，材料方面的投资也开始得比较早；最近十几年，随着中国的经济发展，中国在材料研究上取得了很大的进步，在材料研究上取得了很大的进步，并取得了重大的进展。在这一方面，在半导体材料方面有了迅速的发展。

中国半导体制造的成绩，令光刻机巨人ASML都为之震惊，之前ASML还说过，即便是没有中国制造的光刻机，中国的光刻机产业发展之迅速，甚至超出了他的想象，中国对于其它高端芯片的研发之路，也让许多外国企业包括ASML都感到意外，也许这就是所谓的“限量”将会对整个世界的集成电路产业造成深刻的冲击。

随着世界范围内的科学技术竞赛日趋白热化，中国在发展高端集成电路的同时，欧洲也在加紧研制自主的高端集成电路，以荷兰为基地的ASML公司正大举投资研制太阳能电池晶片，这无疑是对光刻产业的巨大挑战，或许ASML公司在光刻领域的垄断地位的时代要到头了！ASML对光刻工业的垄断时代已经接近尾声。