果然又欢呼早了！佳能纳米压印造芯片技术还是绕不开光刻机！

最近芯片圈的大新闻是佳能搞出了新的芯片制造设备，不需要光刻机，就可以造5nm以下的芯片！

这几年咱们芯片就剩制造这块短板了，美国给荷兰施压力之后，ASML已经把套在我们脖子上的绳索又勒更紧了。去年甚至要把已经卖到中国的高端光刻机给远程加上锁，让中国的吃瓜群众发疯似的到处找出路。

这次佳能的新设备提出了一个新思路：纳米压印！

吃瓜群众沸腾了：“ ASML 这下要慌了，光刻机即将被取代”！

我查了下资料，这纳米压印技术和光刻机相比，工艺更简单，大规模生产成本更低！而这种技术，我国也早就开始悄悄的研究了，复旦和北大等高校都有相关的课题，国内上市企业美迪凯、奥比中光、腾景科技等也都在纳米压印相关行业有所布局。更重要的是目前我国在这方面的专利总数全球占比达到16%，世界排名第二。

纳米压印技术专利分布情况

这一切看起来都很好啊！

但是！

纳米压印和光刻技术，简单用印书来类比芯片制造，前者是雕版印刷术，后者是激光打印术！纳米压印甚至连活字印刷都不是啊！

纳米压印的制造过程分两步，第一步造一个“雕版”，第二步使劲盖章式的“压印”。即先在刻好电路的底板上喷涂模具所需的材料，等凝固后就是纳米压印的雕版。然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章压印、等待凝固、脱模就 OK 了。

这个过程就像古代应用印章来压泥封。

故宫封口蜡印章套装纪念品

只要这个“雕版”不磨损，使劲压印就可以大批量的造出芯片电路了！当然这个压印过程中，就如我们盖章一样，会出现一些bug，这个还是可以用方法来处理的。

但纳米压印最大的“bug”，它是1：1的压出来的，那这个模具就得和芯片所要求的尺寸一样啊！芯片是5nm的，模具也得5nm才行。

这个模具怎么做出来的？

现在可供选择的技术，成熟的还是——光刻。

绕一大圈，还是回来光刻了，少不了ASML的EUV光刻机啊！

相比光刻造芯片的工艺，纳米压印在大规模生产相同的芯片时，可以减少光刻机的用量，至少电费是省了。但如果是小批量试制流片的情况，那就远远不如光刻机来得方便和便宜了！

佳能纳米压印设备