不用光刻机，也能制造5nm芯片！佳能“背刺”ASML公司能否成功？

众所周知，芯片制造的过程很复杂，涉及设计、制造和封装等过程，业界普遍认为，要制造或生产7nm芯片，就必须要有EUV光刻机，或者采用浸润式光刻机，在多重曝光技术下，才能够完成。换句话说，没有光刻机，就不能制造出7nm及以上的先进芯片。

近日，佳能传来了新消息，相当于颠覆了行业认知，它提出了一个新的观点，不用光刻机，也能制造5nm芯片，这到底是怎么回事呢？据悉，佳能研制出了一个全新的芯片制造设备，不需要光刻技术，也能够生产出5nm芯片。更可怕的是，通过继续优化，制造出2nm芯片也不是问题。这到底是怎么回事呢？又是什么技术可以取代光刻技术呢？

实际上，佳能所说的就是“纳米压印”技术。都知道，在高端光刻机领域，几乎都被ASML公司所垄断，尽管佳能、尼康也是行业的Top级企业，但和ASML公司之间的差距还是相当大的。如果继续研究光刻技术，也很难超越ASML公司。

于是，佳能就注意到了另外一个赛道——纳米压印。客观来说，光刻机技术也已经发展到了“瓶颈期”，突破速度明显变慢，而纳米压印尽管只发展了20多年，但却进步神速，确实有“终结光刻时代”的势头和潜力。

更重要的是，和光刻技术相比，纳米压印不仅成本更低，制造工艺更简单，并且还适合大规模生产，一旦纳米压印能够成为主流技术，有望将芯片制造设备的价格“打”下来，这对于整个半导体行业的发展都是有积极作用的。

当然，纳米压印技术有这么多的优势，为何现在才开始研究呢？很显然，有利就有弊，纳米压印技术也是有技术Bug的，主要问题就在于怎么能够在“印章”中挖出纳米级的沟道，怎么解决“印章”过程中缺边少角的问题，以及如何减少纳米压印的残次品问题等等。

归根到底就是，纳米压印技术和良品率之间，还存在比较大的矛盾，良品率上不去，就没有被商用的价值，所以说，纳米压印技术虽好，但还是有不少零碎的技术问题需要解决。

那么问题来了，佳能能够“背刺”ASML公司成功吗？换个提问方式，纳米压印能否取代光刻技术？

针对这个问题，答案已经很明显了，纳米压印技术的第一步就是要制作出“印章”，而在“印章”上挖出纳米级的沟渠，目前最好的方式就是使用光刻技术。也就是说，纳米压印绕不开光刻，更别说取代了！

所以说，纳米压印和光刻并不是对立或取代的关系，相反的，纳米压印和光刻技术的结合，在一定程度上能够节省成本，扩大产能，这或许是未来芯片制造设备发展的新方向、新思路！单一的技术发展，必定会有瓶颈，但多项技术的融合，或许能够打开局面，进入一片新的天地，售价几千万甚至数亿的光刻机，已经逐渐背离市场需求了，是时候做出改变了！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！