佳能发布革命性芯片生产设备，无需EUV光刻机就可以制造5nm芯片！

佳能公司公布了一款以奈米制程制程为基础的晶片制造装置，可生产5奈米晶片。此项技术的推广，将会对半导体制造行业产生重大影响。随着半导体工艺水平的不断提高，极紫外光刻已经成为不可缺少的关键器件，然而，由于其昂贵的价格以及供不应求的现状，导致了其制造成本的不断攀升。为此，佳能公司与「铠侠」、「大日本印务有限公司」等公司联手，开发出一种以奈米压印工艺为基础的批量生产工艺。和普通的光刻机不同，这台机器是用压印的方法制作出来的。与 EUV光刻工艺相比，该工艺可以显著降低能源消耗，降低设备成本。但仍有几个问题有待解决，即引入批量生产。铠侠公司称，该公司已攻克 NIL工艺的基础技术难题，目前正致力于大规模制造，期望能在 NAND闪存产品中率先应用。另外，佳能公司也打算把 NIL技术运用到生产 DRAM及 PC机 CPU等逻辑晶片的装置中，以迎合将来半导体厂商的需要。

据报道， NIL可以实现5纳米的微型化，是一项非常有前景的技术。铠侠表示，很多厂家都对 NIL技术抱有很高的期望，这也从某种程度上说明了人们对这项技术的重视与认同。铠侠公司曾对 NIL进行过测试，结果发现该产品有很高的缺陷，无法投入使用。

作为核心器件供应商，佳能公司不但在推进 NIL工艺中大量生产 NAND闪存，而且也想把这项技术推广到 DRAM以及用于 PC机的 CPU等逻辑器件中。另外，佳能公司也打算把这项技术运用到最尖端的工艺中，如移动电话应用处理芯片。佳能公司推出了一种可用于14平方毫米硅片的装置，其制造能力与5纳米制程的晶片相同。在将来，佳能也会不断的完善这一系列的系统，希望能够在2纳米级的芯片上得到应用。

总的来说，这次佳能公司推出了一款以奈米打印为基础的晶片制造装置，这对佳能来说是一件大好事。该方法不仅可以有效地减少能源消耗，而且还可以促进半导体工艺技术的发展。目前， NIL在大规模生产中还面临着诸多问题。然而，这项技术还是引起了制造商们的极大兴趣。今后，随着工艺的进一步完善与发展， NIL将会在半导体加工行业中扮演越来越重要的角色。

那么，让我们来想一想：您觉得 NIL技术会不会是将来半导体生产的主导技术呢？请在这里发表自己的看法和看法。