目前光刻机几大核心方向,已经取得突破性进展
一台光刻机,主要由激光光源、物镜系统以及工作台,三大核心部分组成。
光刻机有28nm、22nm、14nm、7nm、5nm等不同规格之分,光刻机想要实现更精确的光刻,就必须要提高分辨率,方法只有两种:一种是减少光源波长,另一种是提高数值孔径。
目前,最顶尖的光刻机,光源波长是13.5nm。目前,我国光刻机ArF光源波长已经突破到193nm,已应用在上海微电子制造的28nm光刻机上。
光学镜头是整个光刻机最昂贵最复杂的部件,涉及光学、机械、计算机、电子学等多个前沿领域。虽然仅20余枚镜片,但设计难度极大。
工作台分为两部分,一个是测量台,一个是曝光台,因此也叫双工作台。两个工作台通过交换位置和智能,提高生产效率。
除了以上几大核心部分取得突破外,在沉浸系统方面,也取得了一定的突破。目前,国产光刻机沉浸系统还处于DUV阶段,即KrF、ArF、ArFi。前两种已经取得突破,国产最高可做到90nm,可实现国产化替代。
基于以上逻辑,未来的空间也比较大,下面我也精选了几家值得重点关注,尤其是最后三家尤为看好,已列入九月重点布局行列。
容大感光
公司掌握PCB油墨、光刻胶等电子化学产品生产过程中的核心技术。
晶方科技
公司收购的Anteryon公司为荷兰光刻机制造商ASML供应商
西陇科学
公司的主营业务为化学试剂的研发、生产、销售,部分化工原料贸易、原料药及食品添加剂生产及销售等业务。公司的主要产品为电子化学品、通用试剂、原料药及食品添加剂、化工原料、体外诊断试剂。公司作为国内技术和规模领先的化学试剂专业制造商和集成供应商,提供优质产品和化学试剂技术解决方案。
新莱应材
光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成,公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中,公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。
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