随着材料科学和工程技术的不断发展,真空烧结技术在材料制备和热处理领域中得到了广泛的应用。本文将介绍真空烧结的工作原理、特点和设备,以及其在不同行业的发展趋势和应用前景。
一、工作原理
真空烧结是一种针对粉状和块状材料进行成型(成品和半成品)烧结的工艺。其基本工艺过程是将被烧结的材料放置于真空炉内,关好炉门进行炉内抽真空,将炉内真空度抽至所需要的工作真空度(一般为3×10-3 Pa),然后立即充气,完成烧结的整个工艺。
二、真空烧结的特点
真空烧结工艺过程:粉状材料经过配料混合压制成各种需要的形状,将压制成型的坯料,放入真空烧结炉内。关闭炉门抽真空,真空度达到所需的工作真空度(一般为2~3×10-3 Pa)开始加热,(由于材料的不同所采取的工艺过程不同)加热按工艺曲线加至烧结温度,充气冷却至出炉温度,打开炉门取出工件,完成整个烧结过程。
真空烧结具有如下特点:
烧结产品致密性好,硬度高,性能稳定。
抽真空系统配置性能优越,具有大抽气量、抽速快,能解决原材料放气量大的问题。
能满足不同工艺曲线要求,自动化程度高,检测系统完善,能避免由于一些人为因素造成的不良影响。烧结工艺灵活,可根据不同合同烧结出不同形状的产品。
三、真空烧结设备
真空烧结炉(内循环形式)
内循环形式的真空烧结炉适用于稀土永磁材料的真空烧结、金刚石工具的烧结(焊接)和真空热处理工艺。该设备是在消化吸收国外处理设备优点的基础上,历经多次改进和完善,具有大抽气量、高真空度、
温度均匀可控和无渗漏等特点。设计并生产了有内循环、外循环、双室保护进料和多室(台)组合式进料等多种形式。
真空烧结炉(外循环形式)
外循环形式的真空烧结炉适用于批量生产,最高温度可以达到1450度,压力可以达到2×10-3Pa,压降率可以达到0.5Pa/h,整体温度的均匀性可以达到±3度。
中科同志真空烧结设备
四、发展趋势
真空烧结工艺是目前比较先进的制造工艺技术,而且越来越多地应用在各行业的烧结工艺中。例如,在半导体、陶瓷、超硬材料等领域的制造工艺中,真空烧结工艺技术和设备的使用将越来越广泛。
TORCH针对半导体行业,专门开发了真空烧结炉,并积累了丰富的真空烧结工艺经验,包括晶圆生产、激光器烧结、激光雷达烧结等领域。此外,真空烧结技术还被广泛应用于永磁材料、热喷涂材料、粉末冶金材料等领域。
随着真空烧结设备的不断改进和升级,其自动化程度和生产效率也将不断提高,同时,真空烧结工艺将更加注重环保和能源节约,例如使用可再生能源、减少工业废水和废气排放等。这些措施将进一步推动真空烧结技术的发展和应用。
五、应用前景
随着工业化程度的不断提高和技术的不断进步,真空烧结技术将在更多领域中得到应用。例如,在新材料、新能源、航空航天、汽车等领域,真空烧结技术都具有广泛的应用前景。同时,随着人们对环境保护和能源节约的重视,真空烧结技术将逐渐取代传统的热处理和制造工艺,成为一种更加环保、高效和节能的制造工艺。
综上所述,真空烧结技术具有很多特点和优势,适用于制造高质量、高性能材料和产品。随着技术的不断进步和应用范围的扩大,真空烧结技术将在更多领域中得到广泛应用和发展。未来,真空烧结技术将不断升级和完善,成为更加环保、高效和节能的制造工艺,为各行业的发展和进步提供更加可靠和先进的材料制备和热处理技术。有需要了解的朋友可以继续关注哦~如果您对回流焊、贴片机、半导体集成电路、芯片等有什么不明白的问题,欢迎给我们私信或留言,TORCH技术团队也会为您解答疑惑!欢迎大家持续关注,了解更多!
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