◆ 超表面的定义与应用 超表面组件为一种衍射光学元件(DOE),其关键结构尺寸与工作波长处于同一量级。超表面主要分为两类:
1. 光栅型(如二元光栅、倾斜闪耀光栅):主要用于增强现实(AR)眼镜的光耦合(将光从自由空间导入波导,再导出至人眼),例如Meta的Orion原型机采用碳化硅波导和光栅。
2. 纳米柱衍射光学元件:主要用于成像领域,例如3D传感模组和摄像头模组。其优势在于用单一超表面替代多个传统光学元件,从而缩小模组尺寸并降低成本。
◆技术发展时间线及应用案例
★2023年:意法半导体首次在智能手机后置DTOF(直接飞行时间)多区域阵列中应用超表面,用于距离检测。 ★ 2024年:苹果iPad Pro M4的面部识别(Face ID)照明模组首次采用超表面。 ★ 未来展望:预计超表面将逐步渗透智能手机生物识别模组,但可见光(RGB)成像仍需克服技术挑战。
◆ 技术拆解分析 - 传统Face ID模组(如iPhone 14):包含3片折射透镜+双层基底衍射元件(DOE),通过线性图案实现点阵投影。 - 新型iPad模组:仅用单层纳米柱超表面实现相同功能,显著简化结构(详细拆解报告即将发布)。 ★ 其他应用方向
1. 光谱/偏振分光器:直接集成于图像传感器像素,替代微透镜或增强信噪比。案例包括三星的“颜色路由”和Metalenz的偏振传感技术。 2. 3D裸眼显示(如LetinAR公司):通过微光学元件实现2D/3D模式切换(长期目标为衍射方案)。 ◆ 市场规模预测
★2023年:6200万美元(主要来自AR领域)。 ★ 2029年:预计达20亿美元(AR市场驱动为主,成像领域确定性较高但规模较小)。 ◆ 制造工艺与供应链
① AR光栅:多采用纳米压印光刻(NIL)+高折射率聚合物。
② 成像超表面:当前以硅/二氧化硅半导体工艺为主,可见光应用需转向玻璃基底+二氧化钛(工艺挑战较大)。
★ 供应链格局:初创企业聚焦设计(Fabless)、材料开发(如NIL专用树脂)或垂直整合(提供制造平台服务)。 ★行业动态 - 并购:NIL Technology被台湾Radiant Optoelectronics收购。 - 融资:Lumotive(主动超表面光束转向技术)获4500万美元投资;AR波导公司Cellid获1300万美元融资。
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