半导体激光器有着许多不同于其他激光器的特点和用途。
1、器件结构的影响,QL、QB的发展。
2、材料影响。
3.温度影响。
像散像散是像差的一种,当光学系统对半导体激光器解离面上。
提高限制层带隙的方法是不在常规的GaAs(100)面上生长外延,采用MOCVD在偏离(100)晶面平行的【011】晶向5~7°的衬底上生长外延,可以增加限制层的带隙0.05~0.06eV,同时可以使小丘缺陷密度降低一个数量级以上。有源层(Ga0.85Al0.15)0.5In0.5P
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